一種多路多控式抽真空系統(tǒng)設(shè)備及抽真空方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110730958.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113249708B 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN113249708B 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) C23C16/44（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 封擁軍;周東平;崔世甲;宋維聰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海陛通半導(dǎo)體能源科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉星
地址 201201上海市浦東新區(qū)慶達(dá)路315號(hào)13幢3F
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種多路多控式抽真空系統(tǒng)設(shè)備及抽真空方法，該設(shè)備包括本體、多個(gè)腔室、主管道、抽真空裝置、多個(gè)分管道、多個(gè)控制閥門、多個(gè)萬(wàn)向抽氣頭及多個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，多個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)分別連接于不同的萬(wàn)向抽氣頭以改變?nèi)f向抽氣頭的抽氣方向，一個(gè)腔室內(nèi)可設(shè)置至少一個(gè)萬(wàn)向抽氣頭，且各個(gè)萬(wàn)向抽氣頭可分別控制。本發(fā)明的抽真空方法在抽真空過(guò)程中可根據(jù)腔室內(nèi)氣體的不均勻度或沉積薄膜的不均勻度來(lái)調(diào)節(jié)腔室內(nèi)萬(wàn)向抽氣頭的抽氣速度及抽氣方向，提高腔室內(nèi)殘留氣體的分布均勻性或鍍膜工藝反應(yīng)時(shí)腔室內(nèi)等離子體的分布均勻性，最終提高所鍍膜層的厚度均勻性。萬(wàn)向抽氣頭的高度和/或方向可預(yù)先手動(dòng)調(diào)節(jié)，其抽速及方向也可在抽真空過(guò)程中實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)。