可防誤濺射的物理氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110568274.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113025976B 公開（公告）日 2021-07-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN113025976B 申請(qǐng)公布日 2021-07-30
分類號(hào) C23C14/34（2006.01）I;C23C14/04（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 方合;張慧;崔世甲;宋維聰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海陛通半導(dǎo)體能源科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 盧炳瓊
地址 201201上海市浦東新區(qū)慶達(dá)路315號(hào)13幢3F
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種可防誤濺射的物理氣相沉積設(shè)備，包括腔體、濺射裝置、基座、伸縮遮擋模塊及伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；基座和伸縮遮擋模塊位于腔體內(nèi)，且伸縮遮擋模塊位于濺射裝置和基座之間，包括多個(gè)不同內(nèi)徑的可動(dòng)遮蔽環(huán)，多個(gè)可動(dòng)遮蔽環(huán)自上而下設(shè)置，各可動(dòng)遮蔽環(huán)由2個(gè)位于同一平面的半圓環(huán)形可動(dòng)遮擋部構(gòu)成，各可動(dòng)遮擋部與伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連接；當(dāng)同一可動(dòng)遮蔽環(huán)的2個(gè)可動(dòng)遮擋部相互接觸時(shí)構(gòu)成無縫閉合的環(huán)形體，環(huán)形體的中心顯露出晶圓的鍍膜區(qū)域，以對(duì)晶圓進(jìn)行邊緣遮擋。本發(fā)明在物理氣相沉積設(shè)備內(nèi)設(shè)計(jì)多個(gè)內(nèi)徑不同的可動(dòng)遮蔽環(huán)，各可動(dòng)遮蔽環(huán)可以根據(jù)不同的需要閉合，以實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓邊緣不同范圍的遮擋，有助于提高鍍膜品質(zhì)和降低設(shè)備成本。