一種用于自動化多工位拋光機的高精度定位裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111512773.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114193306A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請公布號 | CN114193306A | 申請公布日 | 2022-03-18 |
分類號 | B24B29/00(2006.01)I;B24B27/00(2006.01)I;B24B47/06(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 楊佳葳;李紅春;王青;方磊 | 申請(專利權)人 | 宇晶機器(長沙)有限公司 |
代理機構 | 長沙明新專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 徐新 |
地址 | 410000湖南省長沙市長沙高新開發(fā)區(qū)文軒路27號麓谷鈺園E-2棟101號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于拋光機制造技術領域,一種用于自動化多工位拋光機的高精度定位裝置,其包括支架,所述支架上安裝有傳動盤和旋轉機構,所述旋轉機構驅動傳動盤旋轉,所述傳動盤上設有多個回轉機構,所述回轉機構處設有定位機構,所述傳動盤開有與定位機構相適配的定位孔;所述回轉機構包括多個回轉組件,所述回轉組件處設有制動組件。與現有技術相比,本發(fā)明通過齒輪傳動和多組獨立減速電機保證整個裝置平穩(wěn)運行以及初步精準定位;通過升降氣缸補償齒輪傳動中齒隙引起的定位誤差,利于進一步提高裝置的定位精度,通過設置剎車氣缸進一步提高了載盤的定位精度。本發(fā)明結構簡單,運行平穩(wěn),保證了自動化多工位拋光機的定位精度。 |
