一種拋光生產(chǎn)線
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201820333135.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN208132568U | 公開(公告)日 | 2018-11-23 |
申請公布號 | CN208132568U | 申請公布日 | 2018-11-23 |
分類號 | B24B1/00 | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 曾桓明 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東高微晶科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州凱東知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 廣東高微晶科技有限公司 |
地址 | 517500 廣東省河源市東源縣仙塘鎮(zhèn)工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及拋光生產(chǎn)線技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種拋光生產(chǎn)線,包括拋光機構(gòu)、傳送機構(gòu)、精處理機構(gòu)和磨邊機構(gòu),所述拋光機構(gòu)的一側(cè)固定連接有傳送機構(gòu),所述傳送機構(gòu)的一側(cè)固定連接有精處理機構(gòu)。本實用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中的拋光生產(chǎn)線的拋光效果差和拋光后的板磚版面空隙較大的問題,通過拋光機構(gòu)、精處理機構(gòu)和磨邊機構(gòu)的相互配合,經(jīng)過在第一拋光機、第二拋光機和第三拋光機的三次拋光下,能夠使板磚更加光滑,在經(jīng)過三個臺超潔亮機的進(jìn)一步處理下,版面效果得到更加有效的改善,此時磚面的間隙變小,避免大的灰塵進(jìn)入間隙內(nèi),從而能夠增加磚面的美觀,在使用時,板磚能夠更加有效的進(jìn)行防污處理,磨邊機構(gòu)能夠?qū)Π宕u進(jìn)行打磨。 |
