反射式雙反應室等離子體銻白爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN92103430.X 申請日 -
公開（公告）號 CN1026916C 公開（公告）日 1994-12-07
申請公布號 CN1026916C 申請公布日 1994-12-07
分類號 F27B17/00;C01G30/00;C22B30/02 分類 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 葉建華;戴新;龐周;蔣樹深 申請（專利權(quán)）人 廣西華凱精細化工有限公司
代理機構(gòu) 中國 代理人 黃永校
地址 廣西壯族自治區(qū)南寧市城北區(qū)秀廂路13號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種等離子體法生產(chǎn)聚酯用催化劑級三氧化二銻的裝置，為雙反應室反射式等離子體銻白爐。金屬銻在第一反應室氧化揮發(fā)，進入第二反應室與等離子體流作用，氣態(tài)的三氧化二銻在出口處經(jīng)水套和空氣驟冷，得到催化劑級三氧化二銻。采用本發(fā)明所述的裝置，生產(chǎn)的催化劑級三氧化二銻純度高，活性高、溶解性好，滿足聚酯生產(chǎn)的要求，且生產(chǎn)工藝簡單，能耗省，成本低。