一種GaN基LED外延結(jié)構(gòu)及其生長(zhǎng)方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310268414.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN103337572A | 公開(kāi)(公告)日 | 2013-10-02 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103337572A | 申請(qǐng)公布日 | 2013-10-02 |
分類號(hào) | H01L33/12(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 羅紹軍;李鴻建;艾常濤;靳彩霞;董志江 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 迪源光電股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 楊立 |
地址 | 430205 湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)光谷一路227號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種GaN基LED外延結(jié)構(gòu)及其生長(zhǎng)方法。該GaN基LED外延結(jié)構(gòu)由下向上依次包括藍(lán)寶石襯底層、GaN成核層、非故意摻雜u-GaN層、N型摻雜GaN層、第一電子儲(chǔ)存區(qū)、GaN隔層、第二電子儲(chǔ)存區(qū)、有源區(qū)多量子阱層、電子阻擋層、P型GaN層、接觸層。本發(fā)明的GaN基LED外延結(jié)構(gòu)及其生長(zhǎng)方法,能夠減小有源區(qū)材料的應(yīng)力,提高GaN基LED的發(fā)光效率,提高晶體材料質(zhì)量。 |
