一種GaN基LED的PGaN結(jié)構(gòu)及其外延生長方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310231920.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103346224A | 公開(公告)日 | 2013-10-09 |
申請公布號 | CN103346224A | 申請公布日 | 2013-10-09 |
分類號 | H01L33/14(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 羅紹軍;艾常濤;靳彩霞;董志江 | 申請(專利權(quán))人 | 迪源光電股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京輕創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 楊立 |
地址 | 430205 湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開發(fā)區(qū)光谷一路227號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種GaN基LED的PGaN結(jié)構(gòu)及其外延生長方法。其中,GaN基LED的PGaN結(jié)構(gòu)為:所述GaN基LED的PGaN結(jié)構(gòu)由下向上依次包括藍寶石襯底層、GaN成核層、第一非故意摻雜u-GaN層、N型摻雜GaN層、有源區(qū)MQW層、量子阱保護層、P型AluInnGa1-u-nN層、第二非故意摻雜u-GaN層、P型GaN層、接觸層,其中,所述第二非故意摻雜u-GaN層為在生長溫度大于或等于1100攝氏度并且小于或等于1250攝氏度范圍內(nèi)生長出來的非故意摻雜u-GaN層。本發(fā)明的GaN基LED的PGaN結(jié)構(gòu),晶體質(zhì)量好,發(fā)光效率高。 |
