電子級(jí)多晶硅清洗方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011290207.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112390259B 公開（公告）日 2022-01-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN112390259B 申請(qǐng)公布日 2022-01-28
分類號(hào) C01B33/037（2006.01）I;C30B33/10（2006.01）I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 吳鋒;張?zhí)煊?孫江橋 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇鑫華半導(dǎo)體科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 周慧云
地址 221004江蘇省徐州市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)楊山路66號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了電子級(jí)多晶硅清洗方法。該電子級(jí)多晶硅清洗方法包括：利用第一至第八清洗液一次對(duì)硅塊進(jìn)行清洗處理。第一清洗液為NaOH溶液或KOH溶液；第二清洗液為HNO3、HF、水的混合液；第三清洗液為HNO3、HF、水的混合液，且相對(duì)于第二清洗液，第三清洗液中HNO3的濃度較低，HNO3與HF的比例較高；第四清洗液為NH4OH溶液；第五清洗液為HF溶液；第六清洗液為H2O2溶液；第七清洗液為HF溶液，且相對(duì)于第五清洗液，第七清洗液中的HF濃度較低；第八清洗液為水。該電子級(jí)多晶硅清洗方法可顯著提高硅塊的清洗效果，并使硅塊整體更加圓潤(rùn)，以便于下游加工。