滲透裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510514589.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN105063550A 公開(kāi)（公告）日 2015-11-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN105063550A 申請(qǐng)公布日 2015-11-18
分類號(hào) C23C10/30 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 伊海波;吳樹(shù)杰;袁易;翟勇;陳雅;刁樹(shù)林;高恩豐;馬建新;苗聚昌;董義;宋彥玲;袁文杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 包頭市天之和磁材設(shè)備制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京悅成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 樊耀峰
地址 014030 內(nèi)蒙古自治區(qū)包頭市包頭稀土高新區(qū)稀土應(yīng)用產(chǎn)業(yè)園稀土大街8-17號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種滲透裝置及方法。該滲透裝置包括加熱室、旋轉(zhuǎn)托盤、旋轉(zhuǎn)托架、料盒、升降機(jī)構(gòu)和傳動(dòng)裝置，其中，加熱室具有環(huán)形槽，旋轉(zhuǎn)托盤設(shè)置在加熱室下端的開(kāi)口端下方；旋轉(zhuǎn)托架安裝在旋轉(zhuǎn)托盤上；料盒設(shè)置在旋轉(zhuǎn)托架上；旋轉(zhuǎn)托架和料盒能夠在升降機(jī)構(gòu)作用下，進(jìn)行上下升降運(yùn)動(dòng)；旋轉(zhuǎn)托架能夠在傳動(dòng)裝置的作用下在環(huán)形槽內(nèi)自轉(zhuǎn)且可繞旋轉(zhuǎn)托盤中心軸公轉(zhuǎn)。本發(fā)明提供的滲透方法包括裝料、抽真空、高溫滲透、冷卻和取料等步驟。本發(fā)明的滲透裝置和方法既實(shí)現(xiàn)了磁體位置的條件等同性，又實(shí)現(xiàn)了加熱環(huán)境的條件等同性，從而滿足了燒結(jié)磁體在高溫滲透和風(fēng)冷卻時(shí)所必需的溫度條件一致性，保證了產(chǎn)品性能的一致性。