X熒光光譜法檢測(cè)組件

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201720097118.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN206479477U 公開（公告）日 2017-09-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN206479477U 申請(qǐng)公布日 2017-09-08
分類號(hào) G01N23/223(2006.01)I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 黃嘉慶;仝曉玲;胡春元;鐘原 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣東億華檢測(cè)技術(shù)發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 廣東風(fēng)華高新科技股份有限公司;廣東億華檢測(cè)技術(shù)發(fā)展有限公司
地址 526020 廣東省肇慶市風(fēng)華路18號(hào)風(fēng)華電子工業(yè)城
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種X熒光光譜法檢測(cè)組件。一種X熒光光譜法檢測(cè)組件包括依次層疊的支撐層、吸附層和保護(hù)層；所述支撐層與所述保護(hù)層的邊緣密封連接形成容置腔，并將所述吸附層包覆在所述容置腔中；所述吸附層能夠吸附測(cè)試樣品。上述X熒光光譜法檢測(cè)組件，支撐層和保護(hù)層連接形成封閉的容置腔，并將吸附層包覆在容置腔中，可以將吸附層與外界隔離，從而防止了外界對(duì)檢測(cè)樣品的污染；通過支撐層與保護(hù)層形成封閉的結(jié)構(gòu)，也可以防止檢測(cè)樣品在測(cè)試中掉落也會(huì)對(duì)儀器造成損壞。