一種晶片的清洗方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110976594.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113675073A 公開（公告）日 2021-11-19
申請公布號 CN113675073A 申請公布日 2021-11-19
分類號 H01L21/02（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I;B08B3/08（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李秀麗;鄒宇;張平;郭鈺 申請（專利權）人 北京天科合達半導體股份有限公司
代理機構 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 紀志超
地址 221000江蘇省徐州市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)創(chuàng)業(yè)路26號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種晶片清洗方法，包括：將晶片依次進行DIW清洗、SPM清洗、HQDR清洗、QDR1清洗、QDR2清洗、高濃度SC1清洗、QDR3清洗、DHF清洗、QDR4清洗、低等濃度SC1清洗、QDR5清洗、SC2清洗和QDR6清洗。本發(fā)明提供的清洗方法對具體污物針對性強，從臟污去除原理上設計了清洗流程，清洗流程簡短，無操作危險。