一種光刻設(shè)備及光刻方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010269164.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113495432A 公開（公告）日 2021-10-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN113495432A 申請(qǐng)公布日 2021-10-12
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 呂帥;徐順達(dá);王冠楠;朱鵬飛;浦東林 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海波拓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周志中
地址 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光刻設(shè)備，包括激光輸出裝置、光路選擇裝置、檢測(cè)模塊和光刻模塊，所述激光輸出裝置發(fā)射激光至所述光路選擇裝置，所述光路選擇裝置選擇將激光反射至所述光刻模塊或所述檢測(cè)模塊。本發(fā)明還公開了一種光刻方法，利用上述光刻設(shè)備進(jìn)行光刻。通過所述光路選擇裝置選擇將激光反射至所述光刻模塊或所述檢測(cè)模塊，以使光刻設(shè)備能實(shí)時(shí)檢測(cè)曝光能量，保證了光刻效果，提高了光刻效率，提升了產(chǎn)品的良品率。