一種浮雕型波導(dǎo)結(jié)構(gòu)及其制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010220339.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113448013A 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN113448013A 申請公布日 2021-09-28
分類號 G02B6/124（2006.01）I;G02B6/136（2006.01）I;G02B6/132（2006.01）I;G02B27/01（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 喬文;羅明輝;李瑞彬;楊博文;李玲;成堂東;朱平;陳林森 申請（專利權(quán)）人 蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州簡理知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊瑞玲
地址 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種浮雕型波導(dǎo)結(jié)構(gòu)及其制作方法，包括如下步驟：第一步，在高折射率基底的表面依次覆蓋一層高折射率材質(zhì)層和一層低折射率材質(zhì)層；第二步，在所述低折射率材質(zhì)層上形成納米結(jié)構(gòu)圖案，將所述納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)移至所述高折射率材質(zhì)層；第三步，清除所述低折射率材質(zhì)層，獲得具有高折射率納米結(jié)構(gòu)的高折射率基底。本發(fā)明所述的浮雕型波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的制作方法確實(shí)解決了現(xiàn)有技術(shù)中高折射率基底刻蝕難度大的問題，另辟蹊徑解決了制造難度，推進(jìn)顯示技術(shù)的發(fā)展。