一種通過(guò)聚焦激光束測(cè)量氣膜孔的形位參數(shù)的方法及系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010736560.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN111854604B | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111854604B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-22 |
分類號(hào) | G01B11/00(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 張曉寧;王建軍;訾進(jìn)鋒;吳平;劉國(guó)強(qiáng);楊小君;趙華龍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 西安中科微精光子科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安維英格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 李斌棟;姚勇政 |
地址 | 710066陜西省西安市高新區(qū)丈八街辦創(chuàng)匯路32號(hào)電子一車間301室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種通過(guò)聚焦激光束測(cè)量氣膜孔的形位參數(shù)的方法和系統(tǒng),該方法可以包括:將所述聚焦激光束在所述氣膜孔的孔壁內(nèi)表面上旋切掃描一周;掃描過(guò)程中采集所述孔壁內(nèi)表面產(chǎn)生的漫反射激光的表征量;相應(yīng)于所述聚焦激光束的焦點(diǎn)沿著所述孔壁內(nèi)表面移動(dòng),根據(jù)所述漫反射激光的表征量獲取所述氣膜孔的形位參數(shù)。 |
