一種低發(fā)射率復合材料及制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201110194335.8 申請日 -
公開（公告）號 CN102877023A 公開（公告）日 2013-01-16
申請公布號 CN102877023A 申請公布日 2013-01-16
分類號 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權）人 山東帥克新能源有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 276200 山東省臨沂市蒙陰縣蒙陰街道河頭村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種低發(fā)射率復合材料及其制備方法，具體地說是一種用氮化鈦與金屬摻雜的復合材料及制備方法。具體是采用磁控反應濺射法，濺射氣體為氬氣，反應氣體為高純氮氣，設備使用一臺雙靶磁控濺射鍍膜機，首先在基材上磁控反應濺射沉積一層的氮化鈦（TiN），再沉積一層銅（Cu）,再沉積一層的氮化鈦（TiN），如是一個周期，重復上述步驟至少在基材上反應濺射兩個周期，最終形成基材/TiN/Cu（Al）/TiN/Cu（Al）/TiN。