一種蝕刻噴淋均壓裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111014907.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113584486A 公開（公告）日 2021-11-02
申請公布號 CN113584486A 申請公布日 2021-11-02
分類號 C23F1/08（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 尹德國 申請（專利權(quán)）人 深圳市宇通瑞特科技有限公司
代理機構(gòu) 廣東科信啟帆知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 李波
地址 518000廣東省深圳市龍崗區(qū)坪地街道金水橋工業(yè)區(qū)寶騰路11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種蝕刻噴淋均壓裝置，包括：均壓體，均壓體上設有第一均壓腔、第二均壓腔、第三均壓腔、至少一個連通第一均壓腔內(nèi)部與外部的進液口、多個與第一均壓腔和第二均壓腔連通的第一出液口、多個與第二均壓腔和第三均壓腔連通的第二出液口、多個連通第三均壓腔內(nèi)部與外部的第三出液口，進液口與第一出液口錯開設置，多個第二出液口與多個第一出液口對應錯開設置，多個第三出液口與多個第二出液口對應錯開設置，第三出液口均連接有噴咀，采用上述技術(shù)方案，通過多次分流及均壓可以充分保證每個噴咀的噴壓一致，噴液量一致，作用在產(chǎn)品上的力度在同面積上一致，進而保證產(chǎn)品蝕刻表面的均勻性及蝕刻質(zhì)量。