一種軸承外圈滾道強(qiáng)化處理裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520606326.9 申請日 -
公開（公告）號 CN205011830U 公開（公告）日 2016-02-03
申請公布號 CN205011830U 申請公布日 2016-02-03
分類號 C23C14/48(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 傅小林;洪學(xué)江;孫新民;翁慧成;柴林 申請（專利權(quán)）人 黃山邁瑞機(jī)械設(shè)備科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 湯東鳳
地址 245200 安徽省黃山市歙縣經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種軸承外圈滾道強(qiáng)化處理裝置及處理方法，包括真空處理室、高真空抽氣系統(tǒng)、高壓靶臺、等離子體產(chǎn)生器、離子加速組件和供氣系統(tǒng)。本實(shí)用新型通過真空處理室、高真空抽氣系統(tǒng)、高壓靶臺、等離子體產(chǎn)生器、離子加速組件和供氣系統(tǒng)的配合，形成一套完整的離子注入處理設(shè)備。射頻電源建立射頻放電氮、碳、氬等離子體，大功率高壓脈沖電源對被處理鋼球提供負(fù)高壓脈沖偏壓，以實(shí)施離子注入或薄膜沉積處理。軸承外圈套在柵網(wǎng)電極及中心電極上，使得軸承外圈的滾道獲得較均勻的注入劑量；強(qiáng)化處理效果更好。