一種軸承內(nèi)圈滾道強化處理裝置及處理方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510493670.6 申請日 -
公開（公告）號 CN105088165B 公開（公告）日 2017-12-22
申請公布號 CN105088165B 申請公布日 2017-12-22
分類號 C23C14/48(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 傅小林;洪學(xué)江;孫新民;翁慧成;柴林 申請（專利權(quán)）人 黃山邁瑞機械設(shè)備科技有限公司
代理機構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黃山明明德軸承有限公司;黃山明明德集團有限公司
地址 245200 安徽省黃山市歙縣經(jīng)濟開發(fā)區(qū)J06地塊
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種軸承內(nèi)圈滾道強化處理裝置，它包括真空處理室、高壓靶臺、旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、傳動機構(gòu)、等離子體產(chǎn)生器、大功率高壓脈沖電源、供氣系統(tǒng)和高真空抽氣系統(tǒng)。還公開了處理方法。通過本發(fā)明裝置，形成一套完整的軸承內(nèi)圈滾道離子注入處理設(shè)備。射頻電源建立射頻放電氮、碳、氬等離子體，大功率高壓脈沖電源對被處理內(nèi)圈滾道提供負高壓脈沖偏壓，以實施離子注入或薄膜沉積處理。冷卻套上的軸承內(nèi)圈在緩慢旋轉(zhuǎn)，表面獲得較均勻的注入劑量，使得軸承內(nèi)圈滾道獲得較均勻的注入劑量；強化處理效果更好。