晶片承載裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200910194785.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN102005403A | 公開(kāi)(公告)日 | 2011-04-06 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102005403A | 申請(qǐng)公布日 | 2011-04-06 |
分類(lèi)號(hào) | H01L21/683(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 丁萬(wàn)春 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 芯電半導(dǎo)體(上海)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 芯電半導(dǎo)體(上海)有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司 |
地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)張江路18號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種晶片承載裝置,包括:底座;以及支撐環(huán),裝配于所述底座上;所述支撐環(huán)適于承載晶片的外圍的非半導(dǎo)體圖形區(qū)域,而支撐環(huán)內(nèi)徑所圍的底座區(qū)域?qū)?yīng)于所述晶片的半導(dǎo)體圖形區(qū)域。本發(fā)明所述承載裝置與晶片中未形成半導(dǎo)體圖形的部分接觸,而實(shí)現(xiàn)承載晶片的目的,并且通過(guò)去離子水的表面張力作用吸附被承載的晶片,進(jìn)一步地,選用限位裝置防止晶片在轉(zhuǎn)移運(yùn)輸過(guò)程中,發(fā)生橫向位移,本發(fā)明所述的晶片承載裝置均適用于雙面圖形晶片以及單面圖形晶片,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,晶片受壓強(qiáng)度小的特點(diǎn),能夠避免承載過(guò)程中晶片斷裂的情況發(fā)生。 |
