石英晶片硝酸清洗裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201620405442.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN205613769U | 公開(公告)日 | 2016-10-05 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN205613769U | 申請(qǐng)公布日 | 2016-10-05 |
分類號(hào) | B08B3/04(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 郝建軍;李永斌;張貽建;何慶利;徐秀杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 紫光國芯微電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 唐山永和專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人 | 張?jiān)坪?/td> |
地址 | 064100 河北省唐山市玉田縣無終西街3129號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種石英晶片硝酸清洗裝置,包括硝酸槽、純水槽及噴淋槽,所述的硝酸槽、純水槽及噴淋槽依次設(shè)置,硝酸槽、純水槽及噴淋槽的上方設(shè)有步進(jìn)電機(jī)光軸,步進(jìn)電機(jī)光軸設(shè)有機(jī)械手臂,機(jī)械手臂抓取清洗提籃。本實(shí)用新型通過設(shè)置硝酸槽、純水槽及噴淋槽利用硝酸槽對(duì)晶片進(jìn)行酸洗,以有效去除晶片表面的金屬分子物質(zhì);經(jīng)酸洗后的晶片通過機(jī)械手臂輸送到純水槽進(jìn)行水洗,去除晶片表面的粘附的酸液及金屬物質(zhì);經(jīng)過水洗的晶片再通過機(jī)械手臂輸送到噴淋槽進(jìn)一步?jīng)_洗;本裝置采用單個(gè)機(jī)械臂進(jìn)行工位轉(zhuǎn)換動(dòng)作,動(dòng)作平穩(wěn)可靠,對(duì)晶片表面的金屬分子物質(zhì)能有效去除,且整個(gè)設(shè)備清洗槽全封閉結(jié)構(gòu),大大減少酸性溶劑的揮發(fā)而導(dǎo)致的環(huán)境污染。 |
