光刻工藝中的曝光場(chǎng)的尺寸選擇方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410061115.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN104865798B 公開(kāi)（公告）日 2017-07-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN104865798B 申請(qǐng)公布日 2017-07-11
分類號(hào) G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 欒會(huì)倩 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無(wú)錫迪思微電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 無(wú)錫華潤(rùn)上華科技有限公司;無(wú)錫迪思微電子有限公司
地址 214028 江蘇省無(wú)錫市國(guó)家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)新洲路8號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種光刻工藝中的曝光場(chǎng)的尺寸選擇方法，用于選擇掃描式光刻機(jī)和步進(jìn)式光刻機(jī)的曝光場(chǎng)尺寸，包括：獲取待生產(chǎn)的芯片尺寸xd×yd；獲取待光刻的晶圓的半徑R；定義橫軸方向上的兩個(gè)shot的中心距離晶圓中心的距離為X、縱軸方向上的兩個(gè)shot的中心距離晶圓中心的距離為Y、晶圓的去邊長(zhǎng)度d；掃描式光刻機(jī)的最大曝光場(chǎng)尺寸為xsc_max×ysc_max，步進(jìn)式光刻機(jī)的最大曝光場(chǎng)尺寸為xst_max×yst_max；xsc=ax×xd、ysc=ay×yd、xst=bx×xd、yst=by×yd；根據(jù)以下約束條件計(jì)算ax、bx、ay、by的值：（1）kx×ax×xd=lx×bx×xd=X，同時(shí)ky×ay×yd=ly×by×yd=Y；（2）xsc＜xsc_max、ysc＜ysc_max、xst＜xst_max、yst＜yst_max；（3）X+0.5xsc＜R?d、Y+0.5ysc＜R?d；（4）kx、ax、lx、bx、ky、ay、ly、by均為整數(shù)。