曝光機臺電子槍加熱系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921338761.2 申請日 -
公開（公告）號 CN211858576U 公開（公告）日 2020-11-03
申請公布號 CN211858576U 申請公布日 2020-11-03
分類號 H01J37/317(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 周凱 申請（專利權(quán)）人 無錫迪思微電子有限公司
代理機構(gòu) 無錫市朗高知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 無錫迪思微電子有限公司
地址 214000江蘇省無錫市太湖國際科技園菱湖大道180號-6
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供曝光機臺電子槍加熱系統(tǒng)，包括：離子泵、分子泵、加熱帶，分子泵一端通過管道接真空室、另一端接機械泵，離子泵通過管道接入真空室，加熱帶纏繞在離子泵外部，高溫情況下，氣體分子運動加速，氣體分子與活性膜的反應(yīng)也會加快，提高了分子泵抽取離子泵內(nèi)氣體的速度，操作方便、結(jié)構(gòu)簡單。??