一種曝光輔助工裝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921313637.0 申請日 -
公開（公告）號 CN210222482U 公開（公告）日 2020-03-31
申請公布號 CN210222482U 申請公布日 2020-03-31
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張賓 申請（專利權(quán)）人 無錫迪思微電子有限公司
代理機構(gòu) 無錫市朗高知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 無錫迪思微電子有限公司
地址 214000江蘇省無錫市太湖國際科技園菱湖大道180號-6
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種曝光輔助工裝，包括版架、固定模塊、限位模塊、接地模塊和機器識別模塊，所述版架內(nèi)設(shè)置有方形凹槽，所述方形凹槽的中心區(qū)域設(shè)置為曝光區(qū)域；所述限位模塊包括限位件和一對平行的限位側(cè)邊，所述限位側(cè)邊設(shè)置在所述版架的側(cè)邊上，所述限位側(cè)邊之間且在所述版架側(cè)邊上還設(shè)置有連接擋邊，所述限位件安裝在所述連接擋邊上；所述固定模塊成對設(shè)置且安裝在所述連接擋邊上；所述接地模塊設(shè)置在所述固定模塊之間。本實用新型解決了電子束曝光機適用產(chǎn)品尺寸的局限性，提高使用效率及可曝光產(chǎn)品的多樣性，且降低模塊重量，降低生產(chǎn)成本；被曝光產(chǎn)品與版架接觸面積大，受力小，形變低。??