一種等離子體CVD設備的微波輸入機構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122355898.2 申請日 -
公開（公告）號 CN215976036U 公開（公告）日 2022-03-08
申請公布號 CN215976036U 申請公布日 2022-03-08
分類號 C23C16/511（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 傅鶴洪 申請（專利權）人 新優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)集團有限公司
代理機構 杭州杭誠專利事務所有限公司 代理人 尉偉敏
地址 310051浙江省杭州市濱江區(qū)濱康路680號1幢208室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種等離子體CVD設備的微波輸入機構，CVD設備的腔體由底板、側壁及頂蓋圍合構成內(nèi)腔，內(nèi)腔下部設有用于放置基材的內(nèi)臺，內(nèi)臺通過絕緣環(huán)支撐在底板上，底板的中部設有通孔，微波輸入機構包括輸入波導管，輸入波導管與波導同軸轉(zhuǎn)換部件連接，波導同軸轉(zhuǎn)換部件的同軸輸出端的外導體與底板上的通孔連接，同軸輸出端的內(nèi)導體穿過底板與內(nèi)臺的底面連接。本實用新型的微波輸入機構具有微波利用率高、腔體體積小的優(yōu)點，具有很高的實用價值。