一種等離子體CVD設(shè)備的腔體結(jié)構(gòu)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202122369186.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN215976037U | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-03-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN215976037U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-08 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C16/511（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 來(lái)木慶 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 新優(yōu)勢(shì)產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州杭誠(chéng)專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 尉偉敏 |
| 地址 | 310051浙江省杭州市濱江區(qū)濱康路680號(hào)1幢208室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種等離子體CVD設(shè)備的腔體結(jié)構(gòu)，固定座、側(cè)壁及頂蓋圍合構(gòu)成所述等離子體CVD設(shè)備的內(nèi)腔，側(cè)壁內(nèi)設(shè)有腔體水冷腔，頂蓋上設(shè)有進(jìn)氣口，固定座上設(shè)有排氣孔，內(nèi)腔的下部設(shè)有內(nèi)臺(tái)，所述內(nèi)臺(tái)通過(guò)絕緣支撐環(huán)設(shè)置在固定座上，內(nèi)臺(tái)內(nèi)部設(shè)有內(nèi)臺(tái)水冷腔，內(nèi)臺(tái)水冷腔的底部與內(nèi)臺(tái)水冷管連接，固定座的中部設(shè)有通孔，通孔的下端口設(shè)有引導(dǎo)微波進(jìn)入內(nèi)腔的波導(dǎo)連接法蘭管，所述內(nèi)臺(tái)水冷管穿設(shè)在波導(dǎo)連接法蘭管的中央。本實(shí)用新型的腔體結(jié)構(gòu)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，效率高、基材取放操作方便的優(yōu)點(diǎn)，具有很高的實(shí)用價(jià)值。 |
