耐高溫光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換器件、制備方法及投影裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010935642.6 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN111999974A 公開(公告)日 2020-11-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN111999974A 申請(qǐng)公布日 2020-11-27
分類號(hào) G03B21/20(2006.01)I;G02B26/00(2006.01)I 分類 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 周際新;劉昕;董月紅 申請(qǐng)(專利權(quán))人 揚(yáng)州吉新光電有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州慧通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 揚(yáng)州吉新光電有限公司
地址 225211江蘇省揚(yáng)州市江都區(qū)大橋集中工業(yè)園區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種耐高溫光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換器件,包括基板及波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層。波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層配置于基板上,包括波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料和粘接劑,波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料充分混合于粘接劑內(nèi),波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料包括若干熒光粉顆粒,在激光照射區(qū)平均兩相鄰熒光粉顆粒之間的距離不超過2倍的熒光粉顆粒的平均直徑,本發(fā)明另提供上述光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換器件的制備方法,通過壓制、自由堆積和無機(jī)工藝,使得波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料和粘接劑均勻分布于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層內(nèi),在激光照射區(qū)內(nèi)平均兩相鄰熒光粉顆粒之間的距離不超過2倍材料顆粒平均直徑。本發(fā)明還提供一種投影裝置。上述技術(shù)方案中的耐高溫光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換器件具有良好的耐高溫能力及抗激光能力。投影裝置因使用其也具備良好的耐溫性和耐高功率性能。??