一種潘寧離子源
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921701555.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211227314U | 公開(公告)日 | 2020-08-11 |
申請公布號 | CN211227314U | 申請公布日 | 2020-08-11 |
分類號 | C23C14/34(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 劉慧超;陳朝斌 | 申請(專利權(quán))人 | 東莞東陽光高能醫(yī)療設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 523808廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)光大We谷A1棟1318號房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型屬于離子源裝置技術(shù)領(lǐng)域,公開一種潘寧離子源,包括等離子腔體,所述等離子腔體包括同軸設(shè)置且依次連接的第一殼體、第二殼體、第三殼體;所述第一殼體的頂端設(shè)置有陰極元件,所述第二殼體內(nèi)設(shè)置有陽極元件,所述第二殼體外設(shè)置有磁場機(jī)構(gòu),所述第三殼體內(nèi)設(shè)置有對陰極元件;所述潘寧離子源還包括冷卻腔體,所述冷卻腔體設(shè)置在所述第一殼體頂部,所述冷卻腔體內(nèi)的冷卻液與所述第一殼體的頂端接觸并將所述陰極元件覆蓋在內(nèi)。本實(shí)用新型的一種潘寧離子源,設(shè)置有冷卻腔體,注入液體后可以使等離子腔體的密封度增加,在冷卻等離子腔體的同時達(dá)到密封效果。?? |
