一種金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備的多區(qū)加熱裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201020284745.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN202116645U 公開（公告）日 2012-01-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN202116645U 申請(qǐng)公布日 2012-01-18
分類號(hào) C23C16/448(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李剛;常依斌;王小舉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海藍(lán)寶光電材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市順天達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 上海藍(lán)寶光電材料有限公司
地址 201616 上海市松江區(qū)文俊路2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開一種金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)設(shè)備的多區(qū)加熱裝置，該多區(qū)加熱裝置主要包括石墨載盤(1)、載盤內(nèi)支撐(2)、載盤外支撐(3)、載盤側(cè)支撐(4)、加熱器(5)、加熱器連接塊(6)、水冷電極(7)、腔體底板(8)。為了實(shí)現(xiàn)MOCVD設(shè)備大面積加熱，將MOCVD的加熱器(5)和石墨載盤(7)由幾個(gè)扇形區(qū)域組成，每個(gè)扇形區(qū)域均獨(dú)立加熱和控制，這就大大降低了控制難度。另外每個(gè)石墨載盤的載盤內(nèi)支撐(2)、載盤外支撐(3)、載盤側(cè)支撐(4)除了起到載盤的安裝支撐外，還封閉了該石墨載盤對(duì)應(yīng)的加熱器周邊區(qū)域，使加熱器的熱量不容易在周向損失，也減少了對(duì)載盤外支撐(3)外部反應(yīng)腔壁的熱量輻射，從而降低了水冷需求。