一種適用半導(dǎo)體集成電路的光刻膠剝離液及制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011496510.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112731777A 公開（公告）日 2021-04-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN112731777A 申請(qǐng)公布日 2021-04-30
分類號(hào) G03F7/42 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 劉江華;馮繼恒;尹淞;魯晨泓;張建 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 芯越微電子材料（嘉興）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 314200 浙江省嘉興市平湖市鐘埭街道新明路901號(hào)3號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種適用半導(dǎo)體集成電路的光刻膠剝離液及制備方法，包括非腐蝕性有機(jī)胺和極性非離子溶劑；以質(zhì)量百分比計(jì)，非腐蝕性有機(jī)胺1?70％，極性非離子溶劑30?99％。本發(fā)明不含有腐蝕性的強(qiáng)堿，清洗后無光刻膠殘留，可直接水洗，不會(huì)產(chǎn)生金屬層腐蝕。