一種低蝕刻率顯影液組合物及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011027026.7 申請日 -
公開（公告）號 CN112394622A 公開（公告）日 2021-02-23
申請公布號 CN112394622A 申請公布日 2021-02-23
分類號 G03F7/32(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 劉江華;張建;賈亞軍;馮紀(jì)恒 申請（專利權(quán)）人 芯越微電子材料（嘉興）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 314200浙江省嘉興市平湖市鐘埭街道新明路901號3號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種低蝕刻率顯影液組合物及其制備方法，包括烷基萘磺酸鹽、非離子表面活性劑、堿金屬鹽、高純水、烷基萘磺酸鹽0.2?10％、非離子表面活性劑0.01?10％、堿金屬鹽0.1?10％以及高純水70?96.9％。本發(fā)明的光刻膠顯影液具有較低的基底材料蝕刻率，顯影過程不會造成基底腐蝕，同時該顯影液還具有分散穩(wěn)定性高、泡沫少、操作窗口大、顯影圖案清晰、后光刻膠無殘留無基底腐蝕等特點(diǎn)。??