超結(jié)器件的結(jié)終端結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210371525.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN102931218B 公開(kāi)（公告）日 2015-03-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN102931218B 申請(qǐng)公布日 2015-03-18
分類號(hào) H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 陳橋梁;姜貫軍;陳仕全;馬治軍;杜忠鵬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 西安龍飛電氣技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安新思維專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 西安龍騰新能源科技發(fā)展有限公司;陜西龍飛新能源科技有限公司
地址 710021 陜西省西安市鳳城十二路1號(hào)出口加工區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種超結(jié)器件的結(jié)終端結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的結(jié)終端結(jié)構(gòu)的結(jié)終端區(qū)設(shè)置若干個(gè)不均勻摻雜P柱，P柱的補(bǔ)償注入掩膜板上設(shè)置有不連續(xù)的阻擋圖形；若干個(gè)不均勻摻雜P柱通過(guò)對(duì)均勻摻雜P柱的不均勻雜質(zhì)補(bǔ)償注入來(lái)實(shí)現(xiàn)，在深槽刻蝕及外延填充或多次外延多次離子注入方式形成均勻摻雜P柱后，從版圖設(shè)計(jì)上進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整P柱的磷離子補(bǔ)償注入的有效注入面積；不連續(xù)的阻擋圖形通過(guò)調(diào)整磷離子補(bǔ)償注入?yún)^(qū)域的阻擋圖形的大小與數(shù)目，決定了P柱的補(bǔ)償注入的有效注入面積。本發(fā)明可以有效地改善結(jié)終端器件的擊穿電壓特性，并且具有較短的結(jié)終端長(zhǎng)度，使得器件的總體器件面積得到縮小，在相同的芯片面積上進(jìn)一步減小了器件導(dǎo)通電阻。