超結(jié)器件的非平衡結(jié)終端結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201210009183.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN102694027B | 公開(公告)日 | 2015-08-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102694027B | 申請(qǐng)公布日 | 2015-08-19 |
分類號(hào) | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 姜貫軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 西安龍飛電氣技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安新思維專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 李罡 |
地址 | 710021 陜西省西安市鳳城十二路1號(hào)出口加工區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種超結(jié)器件的非平衡結(jié)終端結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的結(jié)終端結(jié)構(gòu)的結(jié)終端區(qū)設(shè)置若干個(gè)摻雜濃度不同的均勻P柱,根據(jù)各處的橫向電場分布情況從版圖設(shè)計(jì)上進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整P柱的有效離子注入面積,使達(dá)到擊穿電壓時(shí)P柱區(qū)完全耗盡,所有P柱均是在P柱掩膜板掩膜下同時(shí)注入,從而控制了結(jié)終端區(qū)的各P柱的受主離子總量,并通過多次外延多次離子注入之后進(jìn)行長時(shí)間高溫推結(jié)形成摻雜濃度不同的幾個(gè)均勻的P柱。本發(fā)明可以有效地改善結(jié)終端器件的擊穿電壓特性,并且具有較短的結(jié)終端長度,使得器件的總體器件面積得到縮小,在相同的芯片面積上進(jìn)一步減小了器件導(dǎo)通電阻。 |
