一種無(wú)電解沉積三元合金鍍液
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200710156384.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN101338418B | 公開(kāi)(公告)日 | 2010-10-13 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN101338418B | 申請(qǐng)公布日 | 2010-10-13 |
分類號(hào) | C23C18/48(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 倪孝平;潘建華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 湖州銀行股份有限公司城北支行 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州華鼎知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 韓洪 |
地址 | 313001 浙江省湖州市金泰路1888號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種無(wú)電解沉積三元合金鍍液,該鍍液中含有3.5~5.5克/升的Zn2+,3.5~5.5克/升的Ni2+,0.6~0.7克/升的Fe3+,90~122克/升的復(fù)合雙效鉻合劑,3~4克/升的激活劑,1~2克/升促進(jìn)劑。采用本發(fā)明的鍍液形成的鍍層為三元合金沉積層,沉積層均勻細(xì)致、結(jié)晶細(xì)致,其電極電位比傳統(tǒng)的單一鋅層更正。同時(shí)三元合金層的膨脹系數(shù)也比單一鋅層接近高硅鋁合金膨脹系數(shù)。因此,無(wú)電解三元合金與高硅鋁合金基體結(jié)合力好,從而抗蝕性提高,且成品率高。使在無(wú)電解三元合金沉積層上直接進(jìn)行電鍍?nèi)魏我环N的金屬層都得到了有效的保障。 |
