光催化方法和光催化體系

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011127254.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114377710A 公開(kāi)（公告）日 2022-04-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN114377710A 申請(qǐng)公布日 2022-04-22
分類號(hào) B01J27/24（2006.01）I;B01J27/051（2006.01）I;B01J27/043（2006.01）I;B01J27/047（2006.01）I;B01J27/04（2006.01）I;C01B21/082（2006.01）I;C01G39/06（2006.01）I;C01G41/00（2006.01）I;C01G11/00（2006.01）I;C01G19/00（2006.01）I;C01G53/11（2006.01）I;B82Y40/00（2011.01）I;B82Y30/00（2011.01）I;C01B3/04（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 馬松;劉文勇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢國(guó)創(chuàng)科光電裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 方良
地址 430000湖北省武漢市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)川江池二路28號(hào)3號(hào)樓A503室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于光催化技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光催化方法和光催化體系。該光催化方法包括如下步驟：提供彼此分離的光催化劑、助催化劑和犧牲劑溶液；將所述光催化劑和所述助催化劑溶于所述犧牲劑溶液中，進(jìn)行光催化產(chǎn)氫反應(yīng)。本發(fā)明提供的光催化方法，將光催化劑和助催化劑直接溶于犧牲劑溶液中進(jìn)行光催化產(chǎn)氫反應(yīng)，在犧牲劑溶液中助催化劑可以不斷與光催化劑相互碰撞，因助催化劑的高電子遷移率，碰撞過(guò)程中光催化劑表面的電子從碰撞界面快速轉(zhuǎn)移至助催化劑上，這樣不僅實(shí)現(xiàn)了光生電子和空穴的高效分離，也極大提高了光生電子的還原反應(yīng)速率，從而實(shí)現(xiàn)光催化劑高效穩(wěn)定產(chǎn)生氫氣。