半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其ESD器件
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921831653.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN210296371U | 公開(公告)日 | 2020-04-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN210296371U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-04-10 |
分類號(hào) | H01L27/02 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 周斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市賽元微電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 駱希聰 |
地址 | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)高新區(qū)南區(qū)粵興三道8號(hào)中國(guó)地質(zhì)大學(xué)產(chǎn)學(xué)研基地中地大樓B610 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種ESD器件,包括:第一類型的襯底第二類型的阱區(qū)、至少一組第一類型MOS器件、至少一組第二類型MOS器件、位于阱區(qū)且圍繞一個(gè)或多個(gè)第一類型MOS器件的第二類型的第一擴(kuò)散區(qū)、位于襯底且圍繞一個(gè)或多個(gè)第一類型MOS器件的第一類型的第二擴(kuò)散區(qū)、位于襯底且依次圍繞一個(gè)或多個(gè)第二類型MOS器件的第一類型的第三擴(kuò)散區(qū)和位于襯底且圍繞一個(gè)或多個(gè)第二類型MOS器件的第二類型的第四擴(kuò)散區(qū)。其中,第一至第四擴(kuò)散區(qū)在第一類型MOS器件和第二類型MOS器件之間的部分沿第一方向延伸,且第一柵極和第二柵極的延伸方向平行于第一方向,第一類型與第二類型相反。 |
