內(nèi)嵌動(dòng)力升降裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920850600.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN210763095U | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-06-16 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN210763095U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-16 |
分類號(hào) | B65G47/91(2006.01)I;B65G57/04(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 柴曉峰;王全軍;彭秋煜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 杭州史賓納科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州九洲專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 杭州史賓納科技有限公司 |
地址 | 311307浙江省杭州市臨安市青山湖科技城橫畈街979號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種內(nèi)嵌動(dòng)力升降裝置,包括動(dòng)力裝置、導(dǎo)向裝置、升降裝置、執(zhí)行機(jī)構(gòu)和架體,四個(gè)導(dǎo)向裝置分別位于動(dòng)力裝置的四個(gè)頂點(diǎn)外側(cè),動(dòng)力裝置上設(shè)有升降裝置,升降裝置上設(shè)有執(zhí)行機(jī)構(gòu)、上述的動(dòng)力裝置、導(dǎo)向裝置、升降裝置和執(zhí)行機(jī)構(gòu)均內(nèi)嵌于架體,其中在導(dǎo)向裝置的導(dǎo)引下,動(dòng)力裝置帶動(dòng)升降裝置提升和下降,保證執(zhí)行機(jī)構(gòu)處于合適的工作位置。本實(shí)用新型的有益效果為:可根據(jù)不同的磁瓦和模具,精確地調(diào)整升降高度來(lái)保證執(zhí)行機(jī)構(gòu)處于合適的工作位置;適合多種型號(hào)磁瓦的抓取,且可根據(jù)磁瓦厚度自動(dòng)分配且放置輸出輸送帶上,每疊磁瓦層數(shù)疊放6至12層;本實(shí)用新型通過(guò)對(duì)內(nèi)嵌動(dòng)力升降裝置的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),易于調(diào)整升降高度,便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。?? |
