一種超黑高性能Ti-DLC涂層的制備工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110298324.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113061845A 公開(kāi)（公告）日 2021-07-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN113061845A 申請(qǐng)公布日 2021-07-02
分類號(hào) C23C14/06;C23C14/34;C23C14/02;C23C14/14 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張心鳳;夏正衛(wèi);李燦民;范洪躍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 安徽純?cè)村兡た萍加邢薰?/a>
代理機(jī)構(gòu) 合肥九道和專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 胡發(fā)丁
地址 230088 安徽省合肥市高新區(qū)永和路99號(hào)一天電氣F廠房101-A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種超黑高性能Ti?DLC涂層的制備工藝，包括將工件置于真空腔室內(nèi)，對(duì)真空腔室進(jìn)行抽氣處理，抽氣處理后對(duì)真空腔室和/或工件進(jìn)行除雜處理，除雜處理后向真空腔室內(nèi)充入Ar，采用中頻電源孿生Ti靶在工件的表面制備打底層，打底層制備好后，向真空腔室內(nèi)增加充入C2H2，在打底層上制備過(guò)渡層，制備過(guò)渡層的過(guò)程中按照需求調(diào)控過(guò)渡層制備參數(shù)進(jìn)行變化，調(diào)控變化的過(guò)渡層制備參數(shù)包括Ar充入量、C2H2充入量、工件偏壓、Ti靶材電壓中的一者或幾者；過(guò)渡層制備好后，保持各過(guò)渡層制備參數(shù)穩(wěn)定繼續(xù)鍍膜，從而在過(guò)渡層上制備出穩(wěn)定色層。本發(fā)明提供的上述方案，其制備的鍍膜性能優(yōu)異，DLC的L值低于30，可有效擴(kuò)展應(yīng)用范圍。