一種多層導電納米涂層及其生產(chǎn)工藝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110593802.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113278929A | 公開(公告)日 | 2021-08-20 |
申請公布號 | CN113278929A | 申請公布日 | 2021-08-20 |
分類號 | C23C14/32(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 夏正衛(wèi);張心鳳;范宏躍 | 申請(專利權)人 | 安徽純源鍍膜科技有限公司 |
代理機構 | 合肥九道和專利代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 胡發(fā)丁 |
地址 | 230088安徽省合肥市高新區(qū)永和路99號一天電氣F廠房101-A區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種多層導電納米涂層及其生產(chǎn)工藝,包括由內(nèi)至外依次布置的A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7膜層,其中A1膜層和A4膜層的元素組成包括Cr,A2膜層和A5膜層的元素組成包括Cr和Ni,A3膜層和A6膜層的元素組成包括Cu,A7膜層的元素組成包括Ag,A1膜層和A4膜層采用純離子鍍膜法制備得到,A2膜層、A3膜層、A5膜層、A6膜層和A7膜層采用磁控濺射法制備得到。本發(fā)明提供的金屬納米涂層,兼具導電性好、耐腐蝕、膜基結合力高和耐磨性能好的優(yōu)異特性。 |
