晶體生長(zhǎng)裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202123390633.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN216786304U | 公開（公告）日 | 2022-06-21 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216786304U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-21 |
| 分類號(hào) | C30B15/00（2006.01）I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 顏?zhàn)悠?/td> | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中環(huán)領(lǐng)先（徐州）半導(dǎo)體材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 221004江蘇省徐州市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)鑫芯路1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種晶體生長(zhǎng)裝置，包括爐體、隔離閥和護(hù)套組件，爐體內(nèi)限定出爐腔，爐腔包括主室、隔離室和副室，隔離室設(shè)于主室和副室之間，且與主室和副室分別連通，隔離閥設(shè)于隔離室，且用于隔斷或?qū)ǜ綦x室，護(hù)套組件的至少部分設(shè)于隔離室，護(hù)套組件限定出連通通道以連通主室和副室，護(hù)套組件適于套設(shè)于晶體外，隔離閥導(dǎo)通隔離室時(shí)在爐體的徑向上，護(hù)套組件適于將晶體與隔離室的周壁面以及隔離閥間隔開。根據(jù)本實(shí)用新型的晶體生長(zhǎng)裝置，可以減小保護(hù)氣流流場(chǎng)不恒定對(duì)晶體生長(zhǎng)的影響，有利于提升晶體生長(zhǎng)效率以及晶體品質(zhì)。 |
