用于邊緣拋光設(shè)備的保濕噴液裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202123211735.3 申請日 -
公開（公告）號 CN216940041U 公開（公告）日 2022-07-12
申請公布號 CN216940041U 申請公布日 2022-07-12
分類號 B24B29/02（2006.01）I;B24B55/03（2006.01）I;B24B55/06（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 胡金廷;沈文雷 申請（專利權(quán)）人 中環(huán)領(lǐng)先（徐州）半導體材料有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 221000江蘇省徐州市金山橋開發(fā)區(qū)鑫芯路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于邊緣拋光設(shè)備的保濕噴液裝置，所述保濕噴液裝置位于所述邊緣拋光設(shè)備的上方，所述保濕噴液裝置包括：保濕機構(gòu)，所述保濕機構(gòu)限定出導液腔，所述保濕機構(gòu)具有與所述導液腔連通的進液口和出液口，所述進液口設(shè)于所述保濕機構(gòu)的一側(cè)且適于與水源連通，所述出液口設(shè)于所述保濕機構(gòu)的底壁；噴淋管，所述噴淋管設(shè)于所述保濕機構(gòu)的側(cè)壁，所述噴淋管與所述導液腔連通，所述噴淋管的自由端具有噴淋口，所述噴淋口的噴淋方向與所述出液口的噴淋方向不同。根據(jù)本實用新型的保濕噴液裝置，既可以實現(xiàn)對移載搬運手臂和硅片進行保濕，又可以對缺角拋光機構(gòu)進行清洗，有利于減少制程中的污染，保持良好的制程環(huán)境。