一種基片臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202220264646.0 申請日 -
公開（公告）號 CN216786306U 公開（公告）日 2022-06-21
申請公布號 CN216786306U 申請公布日 2022-06-21
分類號 C30B25/12（2006.01）I;C30B29/04（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 魯振海;黎振坤;王蒙;張春林;常新磊 申請（專利權(quán)）人 河南天璇半導(dǎo)體科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 鄭州睿信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 450000河南省鄭州市河南自貿(mào)試驗(yàn)區(qū)鄭州片區(qū)（鄭東）龍湖中環(huán)路與龍?jiān)次魉慕纸徊婵趩⒌相崠|科技城產(chǎn)促中心2樓226號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種基片臺，基片臺包括內(nèi)支撐和外環(huán)，內(nèi)支撐與外環(huán)分體設(shè)置，內(nèi)支撐裝于外環(huán)的內(nèi)孔中，內(nèi)支撐的上端面低于外環(huán)的上端而在外環(huán)內(nèi)形成放置槽，基片臺還包括上托片，放置槽用于放置上托片，上托片上設(shè)有多個(gè)貫通孔，上托片放置在放置槽內(nèi)后，上托片和內(nèi)支撐在貫通孔處圍成用于放置籽晶的生長槽；通過分體設(shè)置的外環(huán)和內(nèi)支撐形成用于放置上托片的放置槽，使得外環(huán)和內(nèi)支撐能夠分別進(jìn)行加工，內(nèi)支撐的上端面不受外環(huán)的影響，從而能夠?qū)?nèi)支撐的上端面進(jìn)行充分地拋光處理，使其與上托片接觸的接觸面較為光滑，避免存在接觸間隙，增強(qiáng)了散熱效果。