一種用于電鍍液的羥基烷磺酸的制備工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN89103987.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN1025562C 公開(kāi)（公告）日 1994-08-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN1025562C 申請(qǐng)公布日 1994-08-03
分類號(hào) C07C309/08;C25D3/60 分類 有機(jī)化學(xué)〔2〕;
發(fā)明人 陳之文;廖湘旭;錢偉強(qiáng);丁楨祥;譚德順;孫德平 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州滾鍍廠
代理機(jī)構(gòu) 浙江省專利事務(wù)所 代理人 機(jī)械電子工業(yè)部第二設(shè)計(jì)研究院;杭州滾鍍廠
地址 310022浙江省杭州市石橋路84號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種用于電鍍工藝的羥基烷磺酸的制備工藝，產(chǎn)晶廣泛用于電鍍工藝。以羥基烷磺酸的堿金屬鹽為原料，用固體Ba(OH)2·8H2O將其中有害的SO4＝SO3＝進(jìn)行除雜分離，然后用強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行離子交換轉(zhuǎn)型，得到適合電鍍工藝要求的羥基烷磺酸，本工藝操作簡(jiǎn)單，效果好，生產(chǎn)成本大大降低，具有產(chǎn)品無(wú)毒，簡(jiǎn)化三廢處理、節(jié)省能耗等優(yōu)點(diǎn)，制得的產(chǎn)品特別適用于錫鉛電鍍工藝，能獲得優(yōu)良的鍍層，外表達(dá)到全光亮水平。