用于構造5G基站射頻濾波器的單晶壓電諧振器及制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010834606.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112152585A | 公開(公告)日 | 2020-12-29 |
申請公布號 | CN112152585A | 申請公布日 | 2020-12-29 |
分類號 | H03H9/17(2006.01)I;H03H9/56(2006.01)I | 分類 | 基本電子電路; |
發(fā)明人 | 高安明;劉偉;姜偉 | 申請(專利權)人 | 合肥爾微企業(yè)管理咨詢合伙企業(yè)(有限合伙) |
代理機構 | 上海段和段律師事務所 | 代理人 | 李佳俊;郭國中 |
地址 | 325038 浙江省溫州市浙南科技城創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)新天地一期1號樓506室(自主申報) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種用于構造5G基站射頻濾波器的單晶壓電諧振器及制備方法,包括:諧振器襯底1、保護層2、諧振器平板底電極3、單晶壓電材料4、通孔金屬5、第一凸起結(jié)構6、諧振器交叉上電極7以及第二凸起結(jié)構8;所述諧振器襯底1能夠支撐用于構造5G基站射頻濾波器的單晶壓電諧振器;所述諧振器襯底1的電阻大于設定閾值;所述諧振器襯底1的晶格常數(shù)與單晶壓電材料4相匹配;所述保護層2覆蓋在諧振器平板底電極3和諧振器交叉上電極7之上;本發(fā)明通過采用介質(zhì)材料背后刻蝕空氣腔工藝,從而保證了單晶壓電材料的絕對平整。此空氣反射腔具有完美反射聲波、加工方便、可靠性高等優(yōu)點。?? |
