一種超微缺陷檢測(cè)裝置及其檢測(cè)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110878028.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113325006A 公開（公告）日 2021-08-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN113325006A 申請(qǐng)公布日 2021-08-31
分類號(hào) G01N21/95（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 雷楓;張武杰;呂曉云;張鉛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中科慧遠(yuǎn)視覺技術(shù)（洛陽）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100088北京市海淀區(qū)中關(guān)村南一條甲1號(hào)ECO中科愛克大廈801室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了一種超微缺陷檢測(cè)裝置及其檢測(cè)方法，裝置包括成像模塊、光源模塊、濾波模塊和安裝平臺(tái)，成像模塊進(jìn)一步包括相機(jī)、成像透鏡和物鏡，相機(jī)、成像透鏡與物鏡從上至下依次垂直排列，光源模塊進(jìn)一步包括準(zhǔn)直鏡、光源發(fā)生器和分光束鏡，光源發(fā)生器和分光束鏡相連，準(zhǔn)直鏡安裝在光源發(fā)生器與分光束鏡之間；濾波模塊進(jìn)一步包括空間濾波器，空間濾波器安裝在成像透鏡和物鏡之間。本申請(qǐng)采用非接觸缺陷檢測(cè)方式，不會(huì)破壞待測(cè)物體表面，適用于檢測(cè)易損傷表面的缺陷；與常用的光學(xué)顯微成像系統(tǒng)相比，本申請(qǐng)既有高分辨率、又有大視場(chǎng)，能夠識(shí)別分布于數(shù)十毫米范圍內(nèi)的亞微米大小缺陷。