一種堿性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)用萃取裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121019446.0 申請日 -
公開（公告）號 CN215462179U 公開（公告）日 2022-01-11
申請公布號 CN215462179U 申請公布日 2022-01-11
分類號 B01D11/04（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 韋建敏;張曉蓓;張小波 申請（專利權(quán)）人 虹華科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都金英專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 袁英
地址 610000四川省成都市高新區(qū)西芯大道5號2棟11層1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種堿性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)用萃取裝置，涉及萃取裝置技術(shù)領(lǐng)域。一種堿性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)用萃取裝置，包括箱體和反應(yīng)釜，反應(yīng)釜位于箱體內(nèi)壁，箱體頂部內(nèi)壁開設(shè)有滑槽，滑槽內(nèi)壁活動連接有滑塊，滑塊的底部與反應(yīng)釜頂部固定連接，箱體兩側(cè)內(nèi)壁固定連接有隔板，隔板頂部開設(shè)有通孔，隔板底部與箱體底部內(nèi)壁之間設(shè)置有散熱腔，散熱腔的正面外壁通過鉸鏈固定連接有散熱板，散熱腔內(nèi)壁設(shè)置有散熱裝置，箱體頂部內(nèi)壁固定連接有溫度檢測器，箱體頂部固定連接有電機(jī)。本實(shí)用新型通過采用循環(huán)泵和壓縮泵，能夠?qū)A性蝕刻廢液壓入萃取裝置中，經(jīng)過萃取處理，從而能夠使得堿性蝕刻液循環(huán)使用。