一種用于真空氮化的高精度真空動態(tài)控制系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510813120.8 申請日 -
公開（公告）號 CN105331925B 公開（公告）日 2018-02-27
申請公布號 CN105331925B 申請公布日 2018-02-27
分類號 C23C8/24 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃躍學(xué);鄧喬楓;卞健;林國強(qiáng) 申請（專利權(quán)）人 金財互聯(lián)控股股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無錫互維知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王愛偉
地址 224199 江蘇省鹽城市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)南翔西路333號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于真空氮化的高精度真空動態(tài)控制系統(tǒng)，包括真空爐罐、進(jìn)氣系統(tǒng)和排氣系統(tǒng)，所述進(jìn)氣系統(tǒng)與所述排氣系統(tǒng)通過所述真空爐罐相連接，所述進(jìn)氣系統(tǒng)包括第一進(jìn)氣管道及第二進(jìn)氣管道；所述排氣系統(tǒng)包括排氣管道，所述排氣管道上設(shè)有抽真空系統(tǒng)，所述第一進(jìn)氣管道上設(shè)有第一進(jìn)氣控制裝置，所述第一進(jìn)氣控制裝置用于控制所述第一進(jìn)氣管道的進(jìn)氣量；所述第二進(jìn)氣管道上設(shè)有第二進(jìn)氣控制裝置，所述第二進(jìn)氣控制裝置用于控制所述第二進(jìn)氣管道的進(jìn)氣量；所述排氣管道上設(shè)有排氣控制裝置，所述排氣控制裝置用于控制所述排氣管道的排氣量。本發(fā)明通過精確動態(tài)控制進(jìn)氣及出氣量，顯著降低了真空爐罐內(nèi)的壓強(qiáng)波動，確保氮化處理工件的質(zhì)量穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。