一種用于生產(chǎn)氧氯化鋯的氯化爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720776297.X 申請日 -
公開（公告）號 CN207294206U 公開（公告）日 2018-05-01
申請公布號 CN207294206U 申請公布日 2018-05-01
分類號 C01G25/00 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 韓曉玲;趙欣;馬公林;賈廣宇;王錫波;李亞茹;成光明 申請（專利權(quán)）人 赤峰盛森硅業(yè)科技發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京力量專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 張廣輝
地址 024000 內(nèi)蒙古自治區(qū)赤峰市元寶山區(qū)五家工業(yè)園區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及氧氯化鋯生產(chǎn)裝置領(lǐng)域，特別涉及一種用于生產(chǎn)氧氯化鋯的氯化爐。其包括反應(yīng)段、沉降段和過渡段；所述沉降段包括第一支撐殼體，所述第一支撐殼體內(nèi)設(shè)置第一保溫層；所述過渡段包括第二支撐殼體，所述第二支撐殼體內(nèi)設(shè)置第二保溫層，所述第二保溫層內(nèi)敷設(shè)第一耐火層；所述反應(yīng)段包括第三支撐殼體，所述第三支撐殼體內(nèi)設(shè)置第三保溫層，所述第三保溫層內(nèi)敷設(shè)第二耐火層，所述第三支撐殼體外繞設(shè)中頻線圈；所述沉降段設(shè)置有出氣口和第一加料口；所述反應(yīng)段設(shè)置有排渣口、氯氣進(jìn)氣口和第二加料口。本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于生產(chǎn)氧氯化鋯的氯化爐，以解決現(xiàn)有氯化爐尺寸受限的問題。