硬掩膜組合物和硬掩膜及形成圖案的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010087862.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111240153A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-06-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111240153A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-05 |
| 分類(lèi)號(hào) | G03F7/004(2006.01)I | 分類(lèi) | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 王靜;肖楠;宋里千 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 廈門(mén)恒坤新材料科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廈門(mén)市精誠(chéng)新創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 廈門(mén)恒坤新材料科技股份有限公司 |
| 地址 | 361000福建省廈門(mén)市海滄區(qū)東孚鎮(zhèn)山邊路389號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于光刻領(lǐng)域，公開(kāi)了一種硬掩膜組合物和硬掩膜及形成圖案的方法。所述硬掩膜組合物含有聚合物以及溶劑，所述聚合物具有化學(xué)式1所示的結(jié)構(gòu)，其中，R1和R2各自獨(dú)立地表示被至少一個(gè)氧原子間隔開(kāi)的碳原子數(shù)為2～15的取代或非取代烷基或含有羰基的基團(tuán)；R3表示碳原子數(shù)為1～5的取代或非取代烷基或者碳原子數(shù)為6～50的直鏈或支鏈芳基；n為1～500的整數(shù)。本發(fā)明提供的硬掩膜組合物具有優(yōu)異的溶劑溶解性、空隙填充特性和平坦化特性，由其形成的硬掩膜具有良好的耐刻蝕性。?? |
