一種電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機(jī)物的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011125265.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112357999A | 公開（公告）日 | 2021-02-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112357999A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-12 |
| 分類號(hào) | C02F1/30(2006.01)I;C02F101/30(2006.01)N | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
| 發(fā)明人 | 崔碩垚;冀東;宋旺旺;王興華;熊強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中核第四研究設(shè)計(jì)工程有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 張學(xué)府 |
| 地址 | 050011河北省石家莊市體育南大街261號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明適用于廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機(jī)物的方法，包括如下步驟：步驟1將制藥廠排出的廢水暫存；步驟2過(guò)濾明顯固態(tài)雜質(zhì)；步驟3安裝調(diào)試電子束輻照處理設(shè)備，所述電子束輻照處理設(shè)備包括輻照窗和位于所述輻照窗內(nèi)的電子束發(fā)射裝置；步驟4打開電子加速器并調(diào)試電子束能量值，調(diào)試內(nèi)容包括：電子束能量值、束流強(qiáng)度、輻照劑量范圍和廢水流速，并讓廢水從電子束輻照處理設(shè)備下勻速通過(guò)；步驟5將經(jīng)輻照處理后的廢水靜置沉淀，并利用檢測(cè)設(shè)備檢測(cè)COD濃度。借此，本發(fā)明利用電子束照射廢水，實(shí)現(xiàn)對(duì)廢水的加速處理，進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)廢物再利用的目的。?? |
