OLED器件透明陰極及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011523819.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112652726A | 公開(公告)日 | 2021-04-13 |
申請公布號 | CN112652726A | 申請公布日 | 2021-04-13 |
分類號 | H01L51/52;H01L51/56;C23C16/40;C23C16/455 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉騰飛;楊建兵;彭勁松;白羽;秦昌兵 | 申請(專利權(quán))人 | 南京國兆光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京睿之博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉菊蘭 |
地址 | 211111 江蘇省南京市江寧區(qū)正方中路166號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種OLED器件透明陰極及其制作方法,包括:采用原子層沉積方法在OLED器件表面直接沉積透明導(dǎo)電的陰極薄膜;所述原子層沉積方法制備時(shí)采用二乙基鋅作為鋅源材料,三甲基鋁作為鋁源原料以及雙氧水作為氧源原料。有效避免了現(xiàn)有技術(shù)中的制備方法在OLED的透明陰極層領(lǐng)域存在工藝匹配度差或薄膜損傷的缺陷。 |
